二 研究主題
KNN無鉛壓電陶瓷薄膜特性之探討
本研究以KNN無鉛壓電陶瓷粉末經由不同的煆燒溫度使其進行反
應，將煆燒反應後的KNN粉末壓製成靶材，將靶材透過不同的溫度
進行燒結，待燒結完畢使用XRD觀察晶體結構及缺陷，將KNN靶
材使用射頻磁控濺鍍機將矽基板濺鍍上Ti與Pt，再濺鍍上KNN靶材
形成KNN/Pt/Ti/Si之結構，量測部分利用場發射掃描式電子顯微鏡觀
察薄膜晶粒的生長情況及表面型態與XRD針對濺鍍後薄膜的晶相進
行探討，半導體參數分析對試片進行明暗電流分析進而探討材料的光
伏特性。